EP20K400GC655-2N vs EP20K400GC655-1 Comparaison

Comparaison détaillée côte à côte de EP20K400GC655-2N par Altera et EP20K400GC655-1 par Intel. Comparez les spécifications clés, les paramètres électriques, le conditionnement, le statut de cycle de vie, les prix et la disponibilité pour déterminer le meilleur composant pour vos exigences de conception.

Comparaison des spécifications

Paramètre EP20K400GC655-2N EP20K400GC655-1
Marque Altera Intel
Catégorie FPGA & CPLD FPGA & CPLD
Statut du cycle de vie Obsolete Obsolete
Statut du stock In Stock In Stock
Prix unitaire (USD) $127,50 $135,00
Family APEX 20KC APEX 20K
Number of Logic Elements 16640 —
Number of Logic Cells 16640 —
Total System Gates 400000 —
Total RAM Bits 212992 212,992
Number of I/O [DATA_NEEDED: I/O count] —
Number of LABs/CLBs [DATA_NEEDED: LAB count] —
Core Voltage (VCCINT) 1.71 V to 1.89 V —
I/O Voltage (VCCIO) 2.5 V (LVDS-capable) —
Process Technology 0.22 µm CMOS 0.22 µm CMOS
Maximum Operating Frequency 200 MHz —
Propagation Delay (Tpd) 3.1 ns —
Boîtier / Format 655-BCPGA (Ceramic Pin Grid Array) —
Supplier Device Package 655-CPGA, 62.48 x 62.48 mm —
Température de fonctionnement Industrial (per Altera part-number -N suffix) 0 °C to +85 °C (commercial)
Type de montage Through-Hole (CPGA, socket-compatible) Through-Hole
LVDS Support Yes —
Architecture MultiCore (LUT + product-term + embedded memory) —
Configuration Method JTAG / Passive Serial —
Statut RoHS [DATA_NEEDED: RoHS status] Non-compliant (contains lead in ceramic package)
Niveau MSL [DATA_NEEDED: MSL level] —
Series — EP20K400
Logic Elements — 16,640
Maximum Gates — 1,052,000
Typical Gates — 400,000
Embedded System Blocks (ESBs) — 4
Maximum User I/O — 502
Dedicated Inputs — 6
Core Supply Voltage — 2.5 V
I/O Supply Voltage — 3.3 V
Maximum Internal Frequency — 250 MHz
Propagation Delay — 2.5 ns
Boîtier — 655-pin CPGA (Ceramic Pin Grid Array)
Nombre de broches — 655
Configuration Modes — Passive Serial, Passive Parallel Async, Passive Parallel Sync
Boundary Scan — IEEE 1149.1 (JTAG)

Fiches techniques et ressources

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