EPM2210F256C5N vs EPM2210F256C3N Comparaison

Comparaison détaillée côte à côte de EPM2210F256C5N par Intel et EPM2210F256C3N par Intel. Comparez les spécifications clés, les paramètres électriques, le conditionnement, le statut de cycle de vie, les prix et la disponibilité pour déterminer le meilleur composant pour vos exigences de conception.

Comparaison des spécifications

Paramètre EPM2210F256C5N EPM2210F256C3N
Marque Intel Intel
Catégorie FPGA & CPLD FPGA & CPLD
Statut du cycle de vie Actif Actif
Statut du stock In Stock In Stock
Prix unitaire (USD) $17,85 $47,10
Family MAX II —
Logic Elements 2210 —
Macrocells 1700 1700
User I/Os 204 —
User Flash Memory (UFM) 8 Kbits —
Propagation Delay (tPD) 7 ns —
Turn-On Delay (tSU) 11.2 ns —
Maximum Internal Frequency 201.1 MHz —
Supply Voltage (VCCINT) 2.375 V to 3.6 V (3.3 V typical) —
I/O Voltage Standards 1.5 V / 1.8 V / 2.5 V / 3.3 V —
Process Technology 0.18 um CMOS with on-chip flash 0.18 um flash CMOS
Global Clocks 4 —
Température de fonctionnement 0C to +85C (commercial) —
Boîtier 256-ball FineLine BGA (17x17mm, 1mm pitch) 256-ball FineLine BGA (FBGA), 17 x 17 mm, 1.0 mm pitch
Type de montage Surface Mount Surface Mount
Configuration Memory Internal flash (non-volatile, instant-on) On-chip flash (non-volatile, instant-on)
Programming Interface JTAG (IEEE 1149.1) / ByteBlaster / USB-Blaster —
Statut RoHS Compliant Compliant (per DigiKey product page)
Lead-Free Yes —
Series — MAX II
Device Type — CPLD (Complex Programmable Logic Device)
Programmable Type — In System Programmable (JTAG, IEEE 1149.1)
Logic Elements / Blocks — 2210
Number of User I/Os — 204
Maximum Propagation Delay (tPD) — 7 ns
Maximum Internal Frequency (fMAX) — 304 MHz
Internal Supply Voltage — 2.5 V / 3.3 V (on-chip regulator allows single 3.3 V rail)
I/O Standard Support — 1.5 V / 1.8 V / 2.5 V / 3.3 V LVCMOS (MultiVolt)
User Flash Memory — 8 Kbits
Température de jonction en fonctionnement — 0 C to 85 C (commercial, TJ suffix 'C')
Niveau MSL — 3 (per JEDEC J-STD-020, typical for FBGA)

Fiches techniques et ressources

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